TRUMPF加热电源1599111

　　TRUMPF加热电源1599111

　　TRUMPF中频等离子体电源主要用于双阴极系统，例如用于双磁控溅射。得益于高输出功率和流程稳定性，中频电源不仅适合具有高沉积速率的大面积建筑玻璃镀膜，而且适用于在半导体或太阳能电池上涂敷超薄型均匀涂层。凭借出色的精确度和生产效率，该款中频工艺电源成为众多等离子体激发应用的理想解决方案。

　　TruPlasma Bipolar 4000 (G2) 系列工艺电源尤其适合高要求等离子体工艺，如反应溅射、PVD (物理气相沉积)和 PECVD (等离子体增强化学气相沉积)。在半导体与太阳能电池制造、建筑玻璃镀膜以及耐磨装饰涂层涂覆中，该发生器凭借其灵活可塑的输出信号和精湛的电弧管理提供出色结果。

　　使用 TruPlasma MF 7000 (G2) 系列中频电源可始终完全掌控工艺流程：即便在要求严苛的大面积镀膜应用中，仍能比较终获得出色的涂层质量和极高的生产效率。与此同时，凭借超过 90 % 的顶尖能量转化率，此款新一代供电系统确保极高的运行经济性。

　　TruPlasma Bipolar 4000 (G2) 系列的进程供电是专门针对借助 PVD(物理气相沉积)、PECVD(等离子体增强化学气相沉积)和反应式溅射进程的等离子辅助涂层而研发的。凭借其灵活可塑的输出信号和精湛的电弧管理使比较新款发生器的双极脉冲发射器具有广泛用途。无论是半导体和太阳能电池制造还是建筑玻璃涂层，任何情况下都可期待高效涂层质量和涂覆率。

　　全数字化电弧管理确保出色的涂层质量和生产效率。

　　通过输出信号变化轻松适配不同工艺。

　　直流电、被动脉冲式直流电和双极脉冲：得益于多种调整选项可节约成本。

　　无需外部部件，因此空间需求极低。